Дженсен Хуанг верит в китайские ИИ-модели, но, похоже, переоценивает возможности КНР в производстве чипов. По данным Tom's Hardware, местный поставщик SMEE пока способен выпускать только сканеры для «сухой» литографии на 193 нм — этого хватает лишь на 90-нм техпроцесс.
Есть слухи о разработке сканера для погружной литографии под 28 нм, но публичных подтверждений серийных поставок такого оборудования нет.
С 2019 года ASML не поставляет в Китай EUV-литографы — по официальным каналам в страну не попало ни одной такой системы. Хуанг уверен: китайцы создадут собственное оборудование этого класса к 2030 году и наладят выпуск передовых чипов.
Даже если подобные машины появятся у китайских производителей уже в этом году, массовое производство на них станет реальным не раньше 2028–2029 годов.
Паритета с ASML даже в DUV-литографии Китай к 2030 году, скорее всего, не достигнет. В сегменте EUV отставание ещё серьёзнее — работоспособных прототипов сканеров пока нет, хотя источники излучения 13,5 нм, по слухам, уже разработаны.
Без доступа к зарубежному оборудованию нужного класса Китаю остаётся делать ставку на импортозамещение. И в этом смысле сокращение технологического разрыва действительно, похоже, лишь вопрос времени.
«Они доберутся туда к 2030 году. Это буквально уже за углом. Китай весьма хорош в массовом производстве. Два-три года — это ничтожно мало», — заявил глава Nvidia в подкасте All-In.