Китайская компания Langdao Silex впервые публично показала прототип собственного источника излучения для EUV-литографии. По её заявлению, 90 % компонентов произведены в Китае, а большинство ключевых узлов разработано внутри компании.
ASML — единственный в мире производитель коммерческих EUV-литографических систем, нужных для выпуска самых передовых чипов. Свежий отчёт компании показывает: спрос на оборудование явно превышает предложение, а часть клиентов уже просит принять заказы на 2029 и 2030 годы.
ASML повышает цены на сменные детали и комплектующие для литографического оборудования на 10 %. Первыми покупателями по новым ценам станут SK hynix и Samsung, сообщило издание The Elec. Новые цены вступят в силу для поставок с января следующего года.
Преемник самой передовой литографической технологии ASML может появиться примерно через десять лет. Об этом сообщили в рецензируемой статье инженеры нидерландской компании и сотрудники поставщика оптики Carl Zeiss.
К началу 2026 года китайские компании приобрели около 343 иммерсионных DUV-систем, следует из доклада вашингтонского Центра технологий и государственного управления (CTS). Около 270 из них — ASML Twinscan NXT:1980i.
Нидерландская компания ASML, крупнейший в мире производитель литографических систем для выпуска микрочипов, фактически ничего не продаёт на европейском рынке. Об этом на мероприятии в Амстердаме заявил исполнительный вице-президент компании Франк Хемскерк.
Дженсен Хуанг верит в китайские ИИ-модели, но, похоже, переоценивает возможности КНР в производстве чипов. По данным Tom's Hardware, местный поставщик SMEE пока способен выпускать только сканеры для «сухой» литографии на 193 нм — этого хватает лишь на 90-нм техпроцесс.
ASML, контролирующая около 94% мирового рынка литографических сканеров для производства полупроводников, не справляется со спросом на фоне бума ИИ. Вся квота на выпуск EUV-систем стоимостью $200 млн за штуку уже распределена до конца 2027 года.
Рынок лазерных источников для литографических систем контролируют японская Gigaphoton и европейская Cymer, входящая в ASML. Китайским разработчикам сложно создать источники излучения, стабильно работающие на высоких мощностях.
Аналитики UBS полагают, что китайские компании способны наладить массовый выпуск оборудования для погружной литографии с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV immersion lithography) уже в течение ближайших двух-пяти лет.