ASML, контролирующая около 94% мирового рынка литографических сканеров для производства полупроводников, не справляется со спросом на фоне бума ИИ. Вся квота на выпуск EUV-систем стоимостью $200 млн за штуку уже распределена до конца 2027 года.
Компания заложила фундамент нового завода в Нидерландах для расширения мощностей. Samsung Electronics и SK hynix готовы начать использовать оборудование поколения High-NA с 2028 года, тогда как Micron заказала образцы, но сроки внедрения в массовое производство пока не определила.
По словам финансового директора ASML Роджера Дассена, производители памяти внедряют High-NA раньше конкурентов из-за необходимости выпускать более компактные чипы. Практически все клиенты компании запускают это оборудование быстрее изначальных планов.
Все крупные заказчики ASML уже определились с использованием оборудования следующего поколения, сочетающего EUV с высокой числовой апертурой (High-NA). Одна установка может стоить более $400 млн.
TSMC заявила о переходе на такое оборудование с 2030 года, а Intel уже обработала с его помощью 1 млн кремниевых пластин диаметром 300 мм. High-NA позволяет создавать структуры на 40% меньше, чем классические EUV-сканеры.
У ASML по-прежнему нет конкурентов в сегменте EUV-оборудования — попытки японских и китайских компаний создать аналогичные системы не дошли до серийного производства.
Дассен отметил, что клиенты всё чаще просят не только больше оборудования, но и ускорить поставки. В комментарии Reuters он заявил: «Я не думаю, что мы находимся в конце ИИ-бума, откровенно говоря».