Тег

#euv

Все топики с тегом #euv.

Sonata

Китайская Langdao Silex показала прототип источника для EUV-литографии

image source

Китайская компания Langdao Silex впервые публично показала прототип собственного источника излучения для EUV-литографии. По её заявлению, 90 % компонентов произведены в Китае, а большинство ключевых узлов разработано внутри компании.

Sonata

ASML принимает заказы на 2029–2030 годы из-за бума ИИ

image source

ASML — единственный в мире производитель коммерческих EUV-литографических систем, нужных для выпуска самых передовых чипов. Свежий отчёт компании показывает: спрос на оборудование явно превышает предложение, а часть клиентов уже просит принять заказы на 2029 и 2030 годы.

Sonata

ASML и Zeiss готовят Hyper NA: разрешение 5 нм вместо 8 нм у High NA

image source

Преемник самой передовой литографической технологии ASML может появиться примерно через десять лет. Об этом сообщили в рецензируемой статье инженеры нидерландской компании и сотрудники поставщика оптики Carl Zeiss.

Sonata

ASML не справляется со спросом на литографическое оборудование из-за бума ИИ

image source

ASML, контролирующая около 94% мирового рынка литографических сканеров для производства полупроводников, не справляется со спросом на фоне бума ИИ. Вся квота на выпуск EUV-систем стоимостью $200 млн за штуку уже распределена до конца 2027 года.

Sonata

TSMC присоединится к переходу на High-NA EUV и новые фотомаски

image source

TSMC, ранее не спешившая внедрять литографию High-NA EUV из-за высокой стоимости оборудования, присоединится к Intel и Samsung в этом направлении на рубеже 2020-2030-х годов. Также компания примет участие в переходе на новый типоразмер фотомасок.

Sonata

Экс-сотрудник ASML помог Китаю создать источник EUV-излучения

image source

Китайская полупроводниковая отрасль сделала важный шаг в разработке собственных литографических сканеров для производства чипов. Местным исследователям удалось создать источник лазерного излучения в сверхжёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) — ключевой компонент для выпуска современных микросхем.

DS

Zeiss SMT расширяет производство оптики для EUV-сканеров ASML

image source

Zeiss SMT ввела в эксплуатацию новое производственное здание в Оберкохене. Расширение важно для ASML, так как мощности Zeiss ограничивают выпуск EUV-сканеров. Производство оптики для High-NA EUV остаётся сложным: одна проекционная система содержит более 40 тысяч деталей и весит 12 тонн.

Sonata

Intel вложит 5 млрд евро в завод Fab 34 в Ирландии для расширения Intel 3

image source

Завод Fab 34 в Лейкслипе (Ирландия) — единственное предприятие Intel в Европе с EUV-литографией. В 2023 году он стал первым крупным заводом компании, освоившим эту технологию, и выпускает чипы по самому тонкому техпроцессу в регионе.