Преемник самой передовой литографической технологии ASML может появиться примерно через десять лет. Об этом сообщили в рецензируемой статье инженеры нидерландской компании и сотрудники поставщика оптики Carl Zeiss.
Новая установка называется Hyper NA. Она позволит формировать более мелкие элементы чипов и будет использовать значительную часть существующих технологий компании, хотя ряд трудностей ещё предстоит преодолеть.
ASML уже начала разработку, но решение о серийном производстве пока не принято. Тем не менее установка важна для будущего самой компании, её партнёров и конкурентов.
Hyper NA должна обеспечить разрешение около 5 нм против 8 нм у нынешних EUV-установок High NA с числовой апертурой 0,55. Элементы станут примерно на 38 % мельче.
Речь идёт о разрешении установки, а не о 5-нм техпроцессе: названия техпроцессов давно не соответствуют физическим размерам элементов.
Например, TSMC называет передовой техпроцесс N2, а Intel — 18A («18 ангстрем»). Транзисторы по этим нормам не имеют затворов шириной ровно 2 или 1,8 нм. Это названия поколений, отражающие плотность, производительность и энергоэффективность.
Zeiss уже начала изготавливать зеркала с точностью, необходимой для Hyper NA. По габаритам установка будет лишь немного больше систем High NA, которые сравнимы с двухэтажным автобусом.
Для систем мощнее Hyper NA, вероятно, понадобится свет с ещё более короткой длиной волны, но этот вопрос пока на стадии научных исследований.
Из производителей чипов оборудование High NA пока использует только Intel, для техпроцесса 18A. TSMC и Samsung выпускают 2-нм чипы на обычной EUV-литографии. Samsung перейдёт на High NA в 2028 году, TSMC — в 2030 году.
ASML — самая дорогая компания Европы по капитализации: она монополист в литографии со сверхжёстким ультрафиолетом (EUV), нужной в том числе для чипов ИИ.
Инженеры отметили, что нынешний источник света ASML можно использовать для Hyper NA без изменений. Альтернатива на лазерах на свободных электронах также не потребует менять систему освещения.
Это важно для американских стартапов. xLight разрабатывает источники излучения на лазерах на свободных электронах, и Илон Маск намекал на возможную ставку на них на заводе Terafab в Техасе. Substrate занимается рентгеновской литографией.